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CVD(Chemical Vapor Deposition)和MOCVD(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)是兩種常用的化學氣相沉積技術,用于制備薄膜、涂層和納米材料等。
更新日期:2025-04-01
進口實驗室用氫氣發生器的工作原理主要基于水電解和化學反應兩個方面。在水電解中,通過通電將水分解為氫氣和氧氣。這個過程涉及到電解質的質子交換膜,其中陽極吸引氧離子,而陰極則吸引氫離子。當通入電流時,氫離子被還原成氫氣,而在陽極處,氧離子則被氧化成氧氣。
更新日期:2024-11-12
高純氫氣發生器用于電解的電池采用鈦基材料和纖維增強膜。這種結構使電解槽即使在連續運行的過程中也能保證很好的可靠性。纖維增強膜能夠促進氫的電解,而不需要任何添加劑。
更新日期:2024-11-12